見證 AI × LLM 的檢測新世代
誠摯邀請您蒞臨我們的展位，探索智慧製造的無限可能
展會日期
8月20日 – 23日 (週三 – 週六)
展覽地點
臺北南港展覽館 1館 (K區112攤位)
最新 AI 檢測技術
我們將展示最新的AI檢測技術，如生成式AI、自動標註、代理式服務、LLM大語言模型等，並將其應用在高速精度整合檢測設備 (AI多面外觀檢查)、AI SOP人員行為模式辨識、ADC AI瑕疵分類系統等。現場將提供專業的技術諮詢服務，期待與您交流，分享如何在您的業務中應用這些創新解決方案，以提升效率和競爭力。
LLM 驅動缺陷生成，解決稀有樣本痛點
- 利用大型語言模型（LLM）智能化合成千級缺陷樣本，打破資料不足瓶頸，快速產出多樣化訓練資料，標註工時減少80%，大幅提升模型泛化能力。
- 結合自主研發的缺陷生成與標註系統，從亮度調整、縮放到顏色變換，LLM 強化每一筆缺陷細節，助力AI模型更精準地辨識微小瑕疵。
ADC 系統 × LLM：即時回訓、自適應優化
- 通用模型核心 + LLM 驅動回訓策略：系統自動收集異常預測樣本，透過混淆檢視器迅速分析問題，並在後台自動觸發再訓練流程，確保模型準確率持續領先。
- 彈性參數調整與權限管理：依尺寸、面積、位置、分數等多維條件，即時微調檢測敏感度，滿足客戶各類工藝需求，同時保留完整操作與Log紀錄，確保資訊可追溯。
高速運算平台，零等待體驗
- 搭載最新NVIDIA GPU加速與系統最佳化整合，實現毫秒級推論速度，當前機台利用率大幅提升，減少漏檢與過檢，讓良率監控更即時、更精準。
綜合解決方案，多面檢測與行為監控
- 多面檢測機台：震動盤進料＋六面拍攝，一站式高速全檢，小零件MLCC等產線應用無縫銜接。
- AI SOP行為監控：結合LLM與視覺演算法，實時抓取異常操作，主動警報並完整記錄，優化人機協作品質。